Máquina de recubrimiento de plástico dorado y plateado

El recubrimiento por pulverización catódica es un tipo de método de recubrimiento en el que los iones positivos generados por una descarga luminiscente bombardean la superficie del material de destino del cátodo a alta velocidad bajo la acción de un campo eléctrico en un entorno de vacío, pulverizando átomos o moléculas y depositando una película delgada en la superficie de el sustrato El principio de la pulverización catódica consiste en dejar primero que el gas inerte (generalmente gas Ar) se descargue para generar iones y electrones Ar cargados; luego, los electrones vuelan hacia el sustrato, chocando con los átomos de argón continuamente en el proceso, generando más iones Ar y electrones, los iones cargados son acelerados por el campo eléctrico y golpean la superficie del material objetivo, de modo que los átomos del material objetivo son bombardeados y salen volando, y los electrones secundarios se generan al mismo tiempo, y luego golpean los átomos de gas para formar partículas más cargadas. Los átomos objetivo transportan suficiente energía para llegar a la superficie del sustrato para su deposición.

Las ventajas del recubrimiento por bombardeo iónico son: cualquier sustancia puede ser bombardeada, especialmente compuestos de elementos de baja presión y alto punto de fusión; buena adherencia entre la película y el sustrato, alta densidad de recubrimiento, menos poros; porque al controlar la corriente de descarga y la corriente objetivo, se puede controlar el espesor de la película, por lo que el proceso de recubrimiento por pulverización catódica es fácil de controlar y tiene una buena repetibilidad.

Desventajas del recubrimiento por pulverización catódica: el equipo es más complejo, se requiere equipo de alto voltaje y el precio es caro.

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