Máquina de recubrimiento en polvo electrostático

El equipo de recubrimiento al vacío se refiere principalmente a un tipo de recubrimiento que debe realizarse en alto vacío, incluidos muchos tipos, incluida la evaporación de iones al vacío, la pulverización catódica con magnetrón, la epitaxia de haz molecular MBE, la deposición por pulverización láser PLD y muchos otros. Recubrimiento de evaporación Por lo general, el objetivo se calienta para evaporar los componentes de la superficie en forma de radicales o iones. Y se deposita en la superficie del sustrato para formar una película delgada a través del proceso de formación de película (punto disperso - estructura de isla - estructura vaga - crecimiento en capas). En el caso de los recubrimientos por bombardeo iónico, puede entenderse simplemente como bombardear el objetivo con electrones o láseres de alta energía, y bombardear los componentes de la superficie en forma de grupos atómicos o iones, y finalmente depositarlos sobre el sustrato.

La superficie se somete a un proceso de formación de película y, finalmente, se forma una película delgada.

Hay dos métodos principales de recubrimiento al vacío: el método de recubrimiento por evaporación térmica y el método de pulverización catódica con magnetrón. Este artículo presenta principalmente el método de recubrimiento por evaporación térmica comúnmente utilizado. El principio de funcionamiento del método de recubrimiento por evaporación térmica al vacío es que, en un entorno de vacío, el sólido se evapora para convertirlo en un estado gaseoso y finalmente se deposita en la superficie del producto recubierto. El flujo del método de recubrimiento específico se muestra en la Figura 1. El vacío aquí significa que la presión del espacio del contenedor es de aproximadamente 10-3 Pa. En este estado, las materias primas sólidas evaporadas son

Las partículas gaseosas del material pueden alcanzar suavemente la superficie del producto revestido. Hay dos métodos de calentamiento más utilizados para el recubrimiento por evaporación térmica al vacío: calentamiento por resistencia y calentamiento por pistola de electrones. El tipo de calentamiento por resistencia es para hacer que la resistencia disipe el calor activándose para lograr el propósito de calentar el material de recubrimiento; el tipo de calentamiento por cañón de electrones es que el haz de electrones emitido por el cañón de electrones golpea directamente el material de recubrimiento, generando así calor para lograr el propósito de calentar el material de recubrimiento.

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